高质量、大面积的二氧化硅（SiO2）或聚苯乙烯（PS）单层有序阵列，可以此为模板进行湿法、干法刻蚀获得微纳结构，或磁控溅射获得高活性、高均一的SERS衬底，也可以用于电催化、传感器的研制。

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一、基本参数

● 材料类型：二氧化硅（SiO2）或聚苯乙烯（PS）

● 微观结构：六方密排单层有序阵列

● 衬底尺寸：标准尺寸2 cm×2 cm，可任意定制

● 衬底类型：硅片（默认），可任意制定（玻璃片、柔性/弯曲基底、粗糙表面等）

● 典型优势：高质量、大面积、单层有序

二、产品用途

● 更为深入的科学研究、应用探索、器件制造

      光催化、电催化、传感器、SERS衬底研发等。